彭博社報導,先進半導體製程不可或缺的 EUV 微影曝光設備,可說是現代工程奇蹟。荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 生產的半導體設備,不但每套價值 1.5 億美元,更由 10 萬個零件組成,是生產個位數奈米級晶片的重要設備。只是一套 EUV 微影曝光設備每年耗電量達 1 兆瓦,是前幾代設備 10 倍,還沒有替代品的情況下,半導體產業還是全球推動節能減碳的巨大絆腳石。
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元太 E Ink Gallery 3 全彩電子紙獲訂單,夏普、Bigme 新品採用 |
| 作者 陳 冠榮|發布日期 2022 年 10 月 21 日 12:55 | 分類 光電科技 , 會員專區 , 材料、設備 |
電子紙大廠 E Ink 元太科技持續鎖定彩色數位閱讀與筆記市場,今年推出 E Ink Gallery 3 全彩電子紙技術。近日參展日本最大 IT 與電子產品展覽與研討會 CEATEC 2022 的元太,現場展出與夏普顯示科技株式會社(Sharp Display Technology Corporation,SDTC)合作的 E Ink Gallery 3;夏普也進一步採用這項技術,預計 2023 年春季推出新款 8 吋彩色電子紙筆記本。




