Category Archives: 材料、設備

供應趨緊+需求強勁,中國氫氧化鋰價格連漲 21 週

作者 |發布日期 2021 年 05 月 19 日 12:10 | 分類 國際貿易 , 材料、設備 , 電池

新浪財經報導,據生意社數據顯示,截至 17 日,中國國產電池級氫氧化鋰報價 1 噸為人民幣(下同)8.6 萬元 (約台幣 372,746 元),工業級氫氧化鋰報價為 8.3 萬元(約台幣 359,884 元)。光大證券研究報告指出,10~16 日電碳、工碳和電池級氫氧化鋰價格分別為 8.88 萬元(約台幣 385,032 元)、8.15 萬元(約台幣 353,380 元)和 8.57 萬元(約台幣 371,446 元),相較前一週分別下跌 0.9%、1.04% 及上漲 4.3%,氫氧化鋰價格連續 21 週上漲,創近 20 個月新高。 繼續閱讀..

供應依舊吃緊,筆電缺料情況或將延至 Q3

作者 |發布日期 2021 年 05 月 19 日 10:38 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備

疫情催生遠距工作、線上學習需求,導致筆電需求大增;然而,在缺料影響之下,使得筆電供應持續吃緊。法人分析,目前缺料狀況仍未緩解,像是面板驅動 IC 和電源管理晶片已經吃緊滿長一段時間,到今年 Q2 還未看到趨緩的情況,甚至 Q3 會缺更嚴重。

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這設備 30 年前問世至今仍在使用,助 ASML 登上半導體微影曝光龍頭

作者 |發布日期 2021 年 05 月 16 日 10:30 | 分類 IC 設計 , 晶圓 , 晶片

不論是極紫外光微影曝光設備 (EUV) 或是深紫外光微影曝光設備 (DUV),當前都被廣泛用在邏輯晶片與記憶體生產上,可說是當前半導體製程中不可或缺的關鍵設備。而在這些設備的生產當中,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 則在其中扮演了至關重要的角色。只是,當時落後競爭對手的 ASML,如何能成為今天半導體微影曝光設備上的霸主,其關鍵就在當年的 PAS 5500 機台上。

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