日本半導體(晶片)設備銷售夯,5 月銷售額首度衝破 3 千億日圓大關,創下空前歷史新高紀錄。
日本晶片設備銷售夯!5 月首破 3 千億,創空前新高 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2021 年 06 月 18 日 9:30 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 財經 |
超小間距 LED 新應用!聚積攜夢想動畫造全台首座顯示螢幕虛擬攝影棚 |
| 作者 侯 冠州|發布日期 2021 年 06 月 16 日 15:22 | 分類 3C螢幕、電視 , 光電科技 , 會員專區 | edit |
聚積科技 16 日宣布,與台灣知名動畫公司「夢想動畫」共同打造全台第一座 LED 顯示螢幕虛擬攝影棚。此位於台北的虛擬攝影棚以具有高畫質、3,840Hz 視覺刷新率的超高清 P1.25 LED 顯示螢幕(4x4K 輸出)為主要拍攝背景,最高可支援 60FPS 幀頻率的拍攝,並搭配即時影像追蹤攝影設備(Real-time camera tracking system),以營造最真實的沈浸感。

ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸,神隊友救援力拚原時程問世 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2021 年 06 月 10 日 14:00 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備 | edit |
極紫外光曝光機(EUV)目前是先進半導體製程,不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾(ASML)是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商,台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元,但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品,物鏡 NA 數孔徑是 0.33,據 ASML 表示,第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。
