外媒報導,日本和荷蘭原則上同意美國,共同加強限制出口中國先進晶片製造設備,主要限制 16 奈米製程沉浸式深紫外光微影曝光設備 (DUV),可廣泛用於 40 奈米成熟製程到 5 奈米先進製程,對中國半導體產業生產與發展影響甚大。中國除了向世界貿易組織告狀,消息指出中國廠商開始向各大設備商擴大採購,多少延長受衝擊時間。
面對美國新一波出口管制,中國:控訴、爆買! |
| 作者 Atkinson|發布日期 2022 年 12 月 13 日 10:40 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 會員專區 |




