曝光機大廠 ASML 21 日宣布,已運送業界首套數值孔徑為 0.55(High-NA)極紫外線(EUV)曝光機給英特爾。英特爾之前表示,首套 High-NA EUV 曝光機將用於學習如何生產 Intel 18A 先進製程,有望使英特爾領先對手台積電和三星。
ASML 交貨英特爾首套 High-NA EUV 曝光機,總價逾 3 億美元 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 22 日 10:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 |



