Tomshardware 報導,一家俄羅斯研究單位正在研究開發半導體微影曝光設備,預計可生產 7 奈米製程晶片。計畫 2028 年完成,可能比 ASML Twinscan NXT:2000i 效能更高。而 ASML 開發 Twinscan NXT:2000i 花了超過 10 年。
戰鬥民族放大絕!俄羅斯 2028 年要量產 7 奈米製程微影曝光設備 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2022 年 10 月 24 日 7:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |



