跟 ASML 拚了?日經:華為高薪挖人,上海設半導體設備研發中心 |
作者 中央廣播電台|發布日期 2024 年 04 月 12 日 8:00 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備 |
Tag Archives: 曝光機
曝光機三強競爭,NIKON 將推新沉浸式曝光機搶市 |
作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 09 日 9:15 | 分類 材料、設備 , 零組件 |
日本科技大廠 NIKON 消息,2024 年 1 月將發表 ArF 沉浸式曝光機 NSR-S636E,為半導體生產過程關鍵層曝光系統,生產效率更高,並具高水準套印精準度和生產速度。
美國晶片禁令再升級,日商佳能新機器為中國解套? |
作者 遠見雜誌|發布日期 2023 年 10 月 29 日 11:00 | 分類 國際貿易 , 晶圓 |
10 月 17 日,美國商業部公布新一波對中國的人工晶片出口限制,約莫同時,日商佳能(Canon)發表半導體先進製程新機器「奈米壓印」,由於技術不在限制清單之列,是否將成為中國自製半導體的新希望? 繼續閱讀..