武漢肺炎衝擊全球半導體供應鏈,不僅中國深陷疫情泥淖,日韓確診案例也暴增。台經院研究員劉佩真認為,半導體需求來源中國受到疫情抑制,如今日韓供應端也埋下不確定性,恐將拖累今年全球半導體產業成長幅度。
日韓疫情爆發衝擊半導體供應鏈,台廠弊多於利 |
作者 中央社|發布日期 2020 年 03 月 01 日 12:21 | 分類 晶圓 , 晶片 , 零組件 |
以晶圓製造為主、封測為輔,台積電逐步跨界後段製程 |
作者 拓墣產研|發布日期 2020 年 02 月 25 日 7:30 | 分類 伺服器 , 晶圓 , 會員專區 | edit |
台積電從原來的晶圓製造代工角色,逐步跨界至封測代工領域(InFO、CoWoS 及 SoIC 等封裝技術),試圖完整實體半導體的製作流程。根據不同產品類別,台積電的封測技術發展也將隨之進行調整,如同 HPC(High Performance Computer)高效能運算電腦將以 InFO-oS 進行封裝,伺服器及記憶體部分選用 InFO-MS 為主要封裝技術,而 5G 通訊封裝方面即由 InFO-AiP 技術為主流。透過上述不同封裝能力,台積電除本身高品質的晶圓製造代工能力外,更藉由多元的後段製程技術,滿足不同客戶的產品應用需求。
滿足台積電三星先進製程,ASML 支援 3 奈米光刻機估 2021 年問世 |
作者 Atkinson|發布日期 2020 年 02 月 18 日 13:30 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片 | edit |
晶圓代工龍頭台積電於 2020 年正式量產 5 奈米製程,競爭對手三星也隨後追趕當下,更先進的 3 奈米製程目前兩家公司也都在積極研發。這些先進半導體製程能研發成功,且讓未來生產良率保持一定水準之外,光刻機絕對是關鍵。就台積電與三星來說,最新極紫外光刻機(EUV)早就使用在 7 奈米製程,未來 5 奈米製程也會繼續沿用。更新的 3 奈米製程,目前光刻機龍頭──荷蘭商艾司摩爾(ASML)也正研發新一代極紫外光刻機,以因應市場需求。