南韓媒體報導,為了力拚龍頭台積電,三星除了加碼花大把鈔票投資,更調整人事,更換開發晶片的半導體研發中心負責人,期望再締造亮眼成績。
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半導體仍旺?研調:今年銷售將增 11% 再破史高 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2022 年 06 月 02 日 11:10 | 分類 晶圓 , 晶片 |
先前有外資悲觀預測,半導體存貨激增,晶片業下半年情況不妙。研調機構 IC Insights 見解不同,該機構預測今年晶片銷售將有兩位數成長,總額將締造前所未見的新紀錄。 繼續閱讀..
ASIC 穩健成長,下半年拚季季高 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2022 年 06 月 02 日 10:30 | 分類 晶圓 , 晶片 |
近期電子產業在中國封控影響告一段落,以及振興方案的推出之下,使得訂單動能有望增溫,第 3 季傳統旺季比起先前有信心許多,但對第 4 季還是人人沒有把握的不明朗狀態。不過,可以確定的是,設計服務商下半年營運有望季季成長,營運表現將更優於上半年,整體族群展望正向,包含智原、世芯-KY、創意等。 繼續閱讀..
下世代 EUV 單一造價近 120 億元,仍為半導體廠兵家必爭之地 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2022 年 05 月 31 日 11:20 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區 |
外媒《Anandtech》報導,最先進晶片製造技術是 4 / 5 奈米製程,下半年三星和台積電還將量產 3 奈米製程,對使用 ASML EUV 微影曝光技術的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統來說,因有 0.33 NA(數值孔徑)光學器件,可提供 13 奈米解析度,目前看來解析度尺寸對 7 / 6 奈米節點 (36~38 奈米) 和 5 奈米 (30~32 奈米) 單一曝光技術已足夠。隨著間距低於 30 奈米(超過 5 奈米級先進節點)時代到來,13 奈米解析度可能需雙重曝光技術,將是未來幾年內主流技術應用。



