日月光投控 10 日宣布，子公司日月光半導體經其董事會決議通過，向關係人宏璟建設購入 K25 新建廠辦大樓一案，以因應日月光半導體未來擴充傳統及先進封裝之生產產能及提升生產製造之支援效能。
Category Archives: 晶片
ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸，神隊友救援力拚原時程問世 |
作者
Atkinson|發布日期
2021 年 06 月 10 日 14:00 |
|
極紫外光曝光機（EUV）目前是先進半導體製程，不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾（ASML）是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商，台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元，但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品，物鏡 NA 數孔徑是 0.33，據 ASML 表示，第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。
