不論是極紫外光微影曝光設備 (EUV) 或是深紫外光微影曝光設備 (DUV),當前都被廣泛用在邏輯晶片與記憶體生產上,可說是當前半導體製程中不可或缺的關鍵設備。而在這些設備的生產當中,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 則在其中扮演了至關重要的角色。只是,當時落後競爭對手的 ASML,如何能成為今天半導體微影曝光設備上的霸主,其關鍵就在當年的 PAS 5500 機台上。
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聯發科中高階 5G SoC 再添生力軍,6 奈米製程天璣 900 問世 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2021 年 05 月 13 日 16:50 | 分類 Android 手機 , GPU , 晶片 |
看好 5G 滲透率的持續提升,聯發科 13 日發佈天璣系列 5G SoC 最新產品天璣 900,以更完整的 5G 產品組合滿足高端市場需求。
三星自研 Exynos 2200 筆電處理器有望下半年亮相,5 奈米效能受期待 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2021 年 05 月 12 日 17:20 | 分類 Android 手機 , GPU , Samsung |
外媒《tomshardware》報導,受蘋果自研搭載筆記型電腦 M1 處理器受歡迎的激勵,三星即將推出的 Galaxy Book 筆記型電腦也將搭載自研 ARM 架構 Exynos 2200 處理器,並有望 2021 下半年發表。除此之外,三星現階段也考慮可能將此款處理器用於智慧型手機。




