英特爾(Intel)搶先導入艾司摩爾(ASML)的高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)設備,為外界視為是英特爾重返技術領導地位的關鍵作為。產業專家表示,High-NA EUV 成本居高不下,英特爾搶用 High-NA EUV 恐面臨虧損擴大窘境。 繼續閱讀..
英特爾搶用新 EUV,專家:成本高虧損恐擴大 |
作者 中央社|發布日期 2024 年 05 月 19 日 15:11 | 分類 半導體 , 晶圓 , 材料、設備 |